多弧離子+中頻磁控鍍膜機（PVD）是為適應客戶需要鍍制多種復雜膜系而設計的，膜層品質出眾，功能多樣！廣泛應用于模具、工具、汽車配件、五金制品、燈飾、高爾夫球具、化妝品、手機、鐘表、電腦、小家電、不銹鋼裝飾、衛浴、玻璃、陶瓷等產品。適用于金屬、陶瓷、玻璃、水晶等材質表面高亮度能鍍制各種顏色的納米鍍層。
表面鍍制各種裝飾膜及功能膜層：是鍍制IP仿金、IPS、IPC、IP槍、IP黑、IP咖啡色、IP玫瑰、IP藍、香檳金、干邑色等膜層的理想設備。
主要特點：
1、 沉積速率快，溫升小，能較好抑制打火及靶中毒現象；
2、 濺射釋放的高能量使膜層密度和附著力有顯著提高；
3、 觸摸屏+PLC，可實現全自動控制，自動/手動隨時切換；
4、 工件架采用公、自轉結構，可設置自動正反轉，產品均勻性好；
5、 可有效避免反油現象，抽氣速率快，噪聲小，耗能低；
6、 可根據客戶要求配多套靶源。
基本配置：
1、 真空室立式單開門結構，304不銹鋼制造，真空室內直徑自Φ800mm－Φ1300mm；
2、 真空系統由旋片泵、直聯泵、羅茨泵和分子泵（或擴散泵）構成；
3、 鍍膜系統采用1－5臺中頻磁控濺射電源，配有1－5對非平衡磁控靶，并配有6－12個熱陰極電弧；
4、 脈沖偏壓電源；
5、 充氣系統采用國產或進口氣體質量流量計、氣體流量控制（顯示）儀；
6、 電控系統設置電路過載、斷水、斷氣聲光報警裝置；
7、 控制系統（觸摸屏+PLC）在自動運轉時，實時顯示詳細參數，全自動控制整個生產過程，并自動存儲工藝參數。
